Siliziumfilter nach Maß
Als Ausgangsmaterial für unsere Filter verwenden wir monokristallines, hochglanzpoliertes Czochralski-Siliziumwafer. Bei der Prozessierung legen wir dabei besonderen Wert auf Homogenität und Sauberkeit.
Variabel möglich sind folgende Spezifikationen:
- Waferdicke: 180, 300, 500 µm
- Herstellungsprozess: UKP-Laserbohrprozess (Patent erteilt 11/2021)
- Porengrößenbereich: 1000 – 15 µm
- Porenanordnung: frei wählbar (hexagonal, quadratisch)
- individuelle Filterkonfektionierung: quadratisch/rund mit variablen Durchmessern von 15 cm bis 5 mm
- bei Bedarf Lasermarkierungen oder Unterbrechung der Poren (z.B. Pinzetten-Aussparung)